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互补金属氧化物半导体工艺

/complementary metal oxide semiconductor process/
最后更新 2023-08-19
浏览 335
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集成电路制造中,将N沟道金属-氧化物-半导体(negative channel metal-oxide-semiconductor,NMOS)器件和P沟道金属-氧化物-半导体(positive channel metal-oxide-semiconductor,PMOS)器件同时制作在同一硅衬底上的工艺技术。

英文名称
complementary metal oxide semiconductor process
所属学科
电子科学与技术

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