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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":64128,"Name":"光学工程"},{"ID":64129,"Name":"光学应用"},{"ID":109324,"Name":"光刻技术"},{"ID":109325,"Name":"光刻机"},{"ID":109326,"Name":"光刻机测量系统"}]
光刻机测量系统
/measurement system of lithography machine/
最后更新 2023-05-18
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光刻机中用于测量硅片面高度与倾斜度、硅片与掩模对准位置、投影物镜像质测量系统。
- 英文名称
- measurement system of lithography machine
- 所属学科
- 光学工程
京公网安备 11010202008139号
