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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":80436,"Name":"电子科学与技术"},{"ID":99037,"Name":"集成电路"},{"ID":99050,"Name":"集成电路工艺"},{"ID":99051,"Name":"区熔法晶体生长"}]
注入氧隔离
/separate by implant oxygen; SIMOX/
最后更新 2023-08-09
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制备绝缘体上硅（silicon on insulator，SOI）衬底时所使用的工艺技术。
- 英文名称
- separate by implant oxygen; SIMOX
- 所属学科
- 电子科学与技术
京公网安备 11010202008139号
