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光致抗蚀剂

/photoresist/

最后更新 2024-12-18

浏览 324次

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一种感光材料。光照后光致抗蚀剂涂层中发生化学变化，能改变其对显影剂抗蚀能力的高分子化合物。又称光刻胶。常用于集成电路产业、微纳加工、全息光学中。

英文名称: photoresist

又称: 光刻胶

所属学科: 物理学

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