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等离子体增强化学气相沉积

/plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD/

最后更新 2022-12-23

浏览 255次

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利用各种等离子体的能量促使反应气体离解、活化以增强化学反应的化学气相沉积。

英文名称: plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD

所属学科: 电子科学与技术

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