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光刻胶

/photoresist/

最后更新 2024-08-01

浏览 404次

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用于光刻技术的一类感光材料。由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成。又称光致抗蚀剂、光阻或光阻剂。

英文名称: photoresist

又称: 光致抗蚀剂、光阻、光阻剂

所属学科: 化学

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