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物理气相沉积

/physical vapor deposition/

最后更新 2025-10-25

浏览 438次

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在真空条件下，利用蒸发或溅射等物理方法将材料气化成原子、分子或电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程在基体上沉积一层具有特殊功能薄膜的技术。简称PVD。

英文名称: physical vapor deposition

简称: PVD

所属学科: 材料科学与工程

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