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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":64314,"Name":"材料科学与工程"},{"ID":138162,"Name":"金属材料"},{"ID":138231,"Name":"[薄膜材料]"},{"ID":138232,"Name":"表面技术"},{"ID":138233,"Name":"化学气相沉积"}]
低压化学气相沉积
/low pressure chemical vapour deposition/
最后更新 2025-12-10
浏览 334次
反应室的工作压强低于0.1兆帕的化学气相沉积（CVD）技术。简称LPCVD。
- 英文名称
- low pressure chemical vapour deposition
- 简称
- LPCVD
- 所属学科
- 材料科学与工程
京公网安备 11010202008139号
