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磁控溅射

/magnetron sputtering/

最后更新 2025-12-03

浏览 289次

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利用氩气和氧气混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移到基体表面而成膜的一项技术。

英文名称: magnetron sputtering

所属学科: 材料科学与工程

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