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[{"ID":42423,"Name":"工学"},{"ID":64314,"Name":"材料科学与工程"},{"ID":109335,"Name":"电子信息材料"},{"ID":148440,"Name":"电子元器件材料"},{"ID":148444,"Name":"溅射靶材"}]
溅射靶材
/sputtering target/
最后更新 2023-07-27
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通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统，于适当工艺条件下在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。
- 英文名称
- sputtering target
- 所属学科
- 材料科学与工程
京公网安备 11010202008139号
