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光致抗蚀剂

/photoresist/

最后更新 2022-01-20

浏览 240次

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在光刻工艺过程中用作抗腐蚀涂层材料，由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的对光敏感的混合液体。又称光刻胶。是一种感光性高分子记录材料。

英文名称: photoresist

所属学科: 光学工程

又称: 光刻胶

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