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磁控溅射

/magnetron sputtering/
最后更新 2022-12-23
浏览 340
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在溅射的基础上增加一个平行于靶平面的封闭磁场,运用靶材自身的电场与磁场的相互电磁交互作用,将二次电子束缚在靶表面的特定区域来增加电离效率,增加溅射出离子的能量和数量,从而实现高速沉积薄膜的方法。

英文名称
magnetron sputtering
所属学科
机械工程

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